VIM-HC Inductione Vacui Levitatione Electromagnetica Liquefactio

Introductio exemplaris

Idoneum est ad liquefactionem et fusionem per inductionem vacui materiarum activarum, ut titanium, zirconium, superconductores, materiae hydrogenii accumulationis, mixturarum memoriae formae, mixturarum intermetallicarum, et materiarum altae temperaturae.


Detalia Producti

Etiquettae Productarum

Applicationes:

• Capita clavarum golfisticarum e titanio facta;

• Valvae autocineticae titanio-aluminio, rotae turbocompressoris cum extremo calido;

• Partes structurales et machinarum pro industria aëronautica (fusae titanii);

• Implantationes medicae;

• Productio pulverum metallorum activorum;

• Fusiones antliarum et valvae ex zirconio factae, in industria chemica et perforatione marina, etc. adhibitae.

Principium liquefactionis per levitationem:

Fornax liquefaciens per levitationem in vacuum VIM-HC metallum liquefaciendum in campo electrico alternante altae frequentiae vel mediae frequentiae, quod a bobina inductionis sub condicionibus vacui formatur, ponit. Crustulum metallicum aqua refrigeratum quasi "concentrator" campi magnetici fungitur, energiam campi magnetici intra volumen crucibuli concentrans. Hoc fortes currentes turbidolosos prope superficiem sarcinae creat, calorem Joule liberans ad sarcinam liquefaciendam et simul campum virium Lorentzianum generans qui levitat (vel semi-levitat) et massam liquefactam movet.

Ob levitationem magneticam, materia fusa a pariete interiore crucibuli separatur. Hoc modum dissipationis caloris inter materiam fusam et parietem crucibuli a conductione ad radiationem mutat, ratem amissionis caloris insigniter minuens. Hoc permittit materiam fusam temperaturas altissimas (1500℃–2500℃) attingere, ita ut apta sit ad metalla vel mixturas eorum cum alto puncto liquefactionis liquefaciendas.

Commoda Technica:

1. Liquefactio
Refusionem et mixturam;

Degassatio et purificatio;

Liquefactio sine cursu (liquefactio suspensionis);

Reciclatio;

Purificatione reductionis thermalis, purificatione fusionis zonalis, et purificatione distillationis elementorum metallicorum;

2. Iactio
Crystallisatio directionalis;

Incrementum crystalli singularis;

Fusio accurata;

3. Formatio Specialis Controllata
Fusio continua in vacuo (virgae, laminae, tubi);

Fusio laminae in vacuo (fusio laminae);

Productio pulveris vacui;

Classificatio Producti:

* Suspensio materiae fornacis durante fusione contaminationem ex contactu inter materiam et parietem crucibuli efficaciter impedit, ita ut apta sit ad materias metallicas et non metallicas altae puritatis vel valde reactivas obtinendas.

* Agitatio electromagnetica materiae liquefactae praebet optimam homogenitatem thermalem et chemicam.

* Imperium temperaturae liquefactionis et suspensionis per currentem mediae vel altae frequentiae ex spira inductionis praeclaram moderabilitatem efficit.

* Alta temperatura liquefactionis, excedens 2500℃, capax metalla ut Cr, Zr, V, Hf, Nb, Mo, et Ta liquefaciendi.

* Calefactio inductionis est methodus calefactionis sine contactu, vitans impetum et volatilizationem quae a methodis calefactionis fasciculi plasmatis vel fasciculi electronici in crucibulum et metallo liquefacto causantur.

* Functiones amplae, inter quas fusionem, fusionem fundi, fusionem inclinatam, et functiones onerationis, et instructi esse possunt oneratione continua, machinis continuis extrahendis tabularum, et machinis fusionis centrifugalibus (ad libitum).

Specificatio technica

Modellum

VIM-HC0.1

VIM-HC0.5

VIM-HC2

VIM-HC5

VIM-HC10

VIM-HC15

VIM-HC20

VIM-HC30

VIM-HC50

Capacitas

KG

0.1

0.5

2

5

10

15

20

30

50

MF POWER

KW

30

45

CLX

250

350

quadringenti

quingenti

DCCL

DCCC

MF

KHz

12

10

8

8

8

8

8

8

8

Tensio MF

V

250

250

250

250

quadringenti

quadringenti

quingenti

quingenti

quingenti

Vacuum ultimum

Pa

6.6x10-1

6.6x10-3

Vacuum laboris

Pa

4

6.6x10-2

Ratio augmentationis pressionis

Pa

≤3Pa/h

Pressio aquae refrigerantis

MPa

Corpus fornacis et fons potentiae: 0.15-0.2 MPa; Crustulum aeneum aqua refrigeratum: 0.2-0.3 MPa

Aqua refrigerans requiritur

M3/H

1.4-3

XXV-XXX

35

40

45

65

Pondus grossum

Tonna

0.6-1

3.5-4.5

5

5

5.5

6.0


  • Praecedens:
  • Deinde:

  • Nuntium tuum hic scribe et nobis mitte.