Fornax vacui sinterationis reactivae SiC PJ-RSJ

Fornax vacui sinterationis reactivae PJ-RSJ SiC (Imago Praecipua)

Introductio exemplaris

PJ-RFornax vacuum SJ ad sinterationem productorum SiC destinata est. Idonea ad sinterationem reactivam productorum SiC. Muffla graphita instructa est ad pollutionem per evaporationem silicae vitandam.

Sinterizatio SiC per reactionem est processus densificationis quo silicium liquidum reactivum vel mixtura silicii in corpus ceramicum porosum carbonem continens infiltratur ut reagat ad formandum carburum silicii, deinde cum particulis originalibus carburi silicii coniungitur ad implendos poros reliqui in corpore.

Mitte nobis inscriptionem electronicam

Detalia Producti

Etiquettae Productarum

Specificatio principalis

Codex exemplaris		Dimensio zonae laboris mm			Capacitas oneris kg
Codex exemplaris		longitudo	latitudo	altitudo	Capacitas oneris kg
PJ-RSJ	322	trecenti	ducenti	ducenti	centum
PJ-RSJ	DCXXXIII	DC	trecenti	trecenti	ducenti
PJ-RSJ	933	900	trecenti	trecenti	quadringenti
PJ-RSJ	1244	1200	quadringenti	quadringenti	DC
PJ-RSJ	MDCCCLV	MDCCC	quingenti	quingenti	mille
PJ-RSJ	322	trecenti	ducenti	ducenti	centum
Temperatura maxima operandi:1800℃ Uniformitas temperaturae:≤±5℃ in 1300℃; ≤±10℃ in 1600℃; ≤±20℃ supra 1600℃ Vacuum ultimum:4.010^-1Pater; Ratio augmentationis pressionis:≤0.67 Pa/h ; Pressio refrigerationis gasis:*<2 Tabulae.